武汉东原印·未来示范区

东原印·未来项目位于武汉市东西湖区临空港新城，项目总体分三个地块，主要为住宅、底商和幼儿园，为居民提供丰富便捷的生活体验。

功能复合，生态宜居

内部住宅点板结合，均衡布局，建筑高度多为18-21层；商业沿地块外围布置，靠近城市道路，方便服务周边居民；幼儿园设置独立出入口，与居住区互不干扰，相应的配套用房根据需求设置。

现代风格，化繁为简

立面建筑主体为浅灰色，建筑基座采用米白色，立面中段通过阳台板的跳色方式将米白色穿插处理，突出立面的线条感。顶部将局部女儿墙抬高，使得建筑中轴得以凸显。

品质归家示范区

项目东西向主轴线横贯三个地块，西侧为城市来向，靠近轨道交通，为了增强项目的昭示性，示范区靠近西侧人流来向布置。建筑呈U型设计，结合底商及归家大堂，总体流线为归家大堂-景观廊道-售楼处--原聚场-样板间-景观核心区-回售楼处。

▲静谧开阔的镜面水景，搭配灵动的跳泉，打造仪式归家之路

示范区立面风格为现代风格，采用构成主义的设计手法，框体线条勾勒出整体大框架，顶部采用玻璃幕墙设计，具有拔高的作用。大堂两侧采用景观廊架处理，和商业立面保持一致，形成完整的建筑界面，立面造型整体和谐统一。

归家大堂及售楼处后期使用功能分别为小区主入口及商业，设计时兼顾了两种功能的考虑。立面材料采用白色石材、深灰色铝板等现代简洁的材料，色调典雅大方。

室内设计以浅米色为基调，轻奢典雅。运用点光源、线光源及造型灯饰丰富了室内的空间层次和明暗关系。

景观设计突显了建筑主入口的秩序感，同时，勾勒出灰空间的趣味性，它与建筑完美的融为一体。

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